首页
要闻详情
图标图标

ASML 价值 3.5 亿欧元的 High-NA EUV 光刻机已获得 10~20 个订单,预计到 2028 年可将年产量提高到 20 台

亚汇网亚汇网
关注
2024-02-14 06:18:53
644
此外,ASML还告诉路透社,该公司截至目前已收到包括英特尔和SK海力士在内数家公司的“10到20”个订单,并计划到2028年每年生产20台。...
此外,ASML还告诉路透社,该公司截至目前已收到包括英特尔和SK海力士在内数家公司的“10到20”个订单,并计划到2028年每年生产20台。ASML的High-NATwinscanEXE光刻机代表了该公司技术的巅峰,每台设备重达150,000公斤,相当于两架空客A320客机,需要250个集装箱运输,运到客户手里后还要再由250名工程师花费六个月的时间组装。即将推出的High-NAEUVTwinscanEXE光刻机能够实现8nm的分辨率,而现机器只能通过单次曝光达到13nm的分辨率,这使得下一代晶体管尺寸将缩小约至1.7分之1,晶体管密度增加近三倍,对3nm以下工艺至关重要,而这也是业界在2025年至2026年之间希望达到的目标。当然,现有EUV光刻机也可以实现同样的分辨率和晶体管密度,但它们需要采用更昂贵的材料和更复杂的双/多重曝光技术,而采用High-NAEUV技术则可以简化生产流程、提高良率并有效降低成本。不同的芯片制造商对部署High-NAEUV机器的规划也不同,例如英特尔就计划在其后18A工艺中使用High-NAEUV光刻机,而台积电则会采取更谨慎的做法,预计将在2030年左右才会将其用于1nm级节点(未确认具体时间)。相关阅读:《广告声明:文内含有的对外跳转链接(包括不限于超链接、二维码、口令等形式),用于传递更多信息,节省甄选时间,结果仅供参考,指股网所有文章均包含本声明。

风险提示及免责声明

文章来源于亚汇网,转载注明原文出处,此文观点与指股网无关,理性阅读,版权属于原作者若无意侵犯媒体或个人知识产权,请联系我们,本站将在第一时间删掉 ,指股网仅提供信息存储空间服务。