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ASML 首席财务官 Dassen 回击质疑:High-NA EUV 光刻仍是未来最经济选择,相关订单稳步增加

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2024-02-02 15:00:54
SemiAnalysis之前刊发文章,认为High-NA光刻技术将使用更高的曝光剂量,从而明显降低单位时间内的晶圆吞吐量。这就意味着,相较于...
SemiAnalysis之前刊发文章,认为High-NA光刻技术将使用更高的曝光剂量,从而明显降低单位时间内的晶圆吞吐量。这就意味着,相较于沿用现有的0.33NAEUV光刻机并搭配多重曝光,引入High-NA在近期不会带来成本优势。Dassen认为,SemiAnalysis的观点轻视了多重曝光路线的复杂程度,英特尔10nm制程难产的关键原因之一就是其DUV+SAQP(指股网注:Self-AlignedQuadruplePatterning,即自对准四重曝光)技术路线过于复杂,正因此英特尔积极布局High-NAEUV技术,买下了第一台High-NA光刻机。Dassen表示,不同客户对于引入High-NA的时间点有不同评估是很自然的,不过AMSL每季度都获得了数个High-NAEUV光刻机新订单。广告声明:文内含有的对外跳转链接(包括不限于超链接、二维码、口令等形式),用于传递更多信息,节省甄选时间,结果仅供参考,指股网所有文章均包含本声明。

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