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消息称 SK 海力士将在 1c DRAM 生产中采用新型 Inpria MOR 光刻胶

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2024-05-30 07:30:01
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据Thlc,KHyix计划在第6代(1c工艺,约10)DRA的生产中使用Iria下一代金属氧化物光刻胶(OR),这是OR首次应用于DRA量产工艺。消息人士称,KHyix量产的1cDRA上有五个极紫外(UV)层,其中一层将使用OR绘制。他还补充说,“不仅K海力士,三星电子也将追求这类无机R材料。”指股网
据TheElec,SKHynix计划在第6代(1c工艺,约10nm)DRAM的生产中使用Inpria下一代金属氧化物光刻胶(MOR),这是MOR首次应用于DRAM量产工艺。消息人士称,SKHynix量产的1cDRAM上有五个极紫外(EUV)层,其中一层将使用MOR绘制。他还补充说,“不仅SK海力士,三星电子也将追求这类无机PR材料。”指股网查询公开资料获悉,Inpria是日本化学公司JSR的子公司,也是无机光刻胶领域的领导者;而MOR则被认为是目前用于先进芯片光刻的化学放大光刻胶(CAR)的下一代产品。此外,该公司自2022年以来就一直与SKHynix合作进行MOR研究。SKHynix此前曾表示,使用Sn(基)氧化物光刻胶将有助于提高下一代DRAM的性能并降低成本。TheElec报道还指出,三星电子也在考虑将MOR应用于1cDRAM,目前三星电子在1cDRAM上应用了6至7个EUV层,而美光则只应用了1层。相关阅读:《广告声明:文内含有的对外跳转链接(包括不限于超链接、二维码、口令等形式),用于传递更多信息,节省甄选时间,结果仅供参考,指股网所有文章均包含本声明。

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